文献类型：期刊文章

作　　者：李斌[1] 叶向东[1] 郭宇轩[1] 周嘉玮[1]

Li Bin;Ye Xiangdong;Guo Yuxuan;Zhou Jiawei(School of Mechanical and Electrical Engineering,Xi＇an University of Architecture and Technology,Shanxi Key Laboratory of Nano-Materials and Technology,Xi＇an 710055)

机构地区：[1]西安建筑科技大学机电工程学院陕西省纳米材料与技术重点实验室,西安710055

出　　处：《化工新型材料》

基　　金：国家自然科学基金项目(51475353);陕西省教育厅重点实验室科学研究计划项目(16JS057)

年　　份：2018

卷　　号：46

期　　号：7

起止页码：101-105

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD_E2017_2018、JST、RCCSE、核心刊

摘　　要：介绍了一种简单、新颖的微胶囊阵列制备方法。首先,通过光刻技术,在光敏聚酰亚胺光刻胶表面形成阵列化2D结构的圆形凹槽,以此作为微胶囊的模板,然后利用旋涂的方法,在微胶囊模板上进行SiO2纳米粒子自组装,SiO2纳米粒子选择性的进入模板表面的凹槽之中,再将配制好的PMMA材料旋涂在微胶囊模板表面,经过加热烘干,最终形成微胶囊阵列。这种微胶囊阵列可用于以图形化、阵列化微胶囊为先决条件的限制材料,尤其在高输出、多用途的传感器领域具有潜在的应用前景。

关 键 词：微胶囊 阵列 凹槽  旋涂 自组装

分 类 号：TB383.1[材料类]