期刊文章详细信息
碳化硅材料研究现状与应用展望
Research Status and Application Prospect of Silicon Carbide Materials
文献类型：期刊文章
WANG Jiapeng;HE Dongge;ZHAO Wanyun(The 45thResearch Institute of CETC,Beijing 100176,China)
机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京100176
年 份：2018
卷 号：47
期 号：4
起止页码：23-26
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：介绍了碳化硅材料的物理特性、加工工艺,展望了碳化硅材料的应用前景,提出了深入研究碳化硅材料的必要性以及紧迫感。
关 键 词：碳化硅 半导体材料 加工工艺 应用展望
分 类 号：TN304.05]
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