期刊文章详细信息
溅射工艺对金属Mo膜微观结构及红外反射特性的影响
Effect of Sputtering Parameter on Microstructure and Infrared Reflectivity of Mo Films
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心,北京10083 [2]北京航空航天大学凝聚态物理与材料物理研究中心,北京100083
年 份：2012
卷 号：4
期 号：3
起止页码：160-162
语 种：中文
收录情况：NSSD、普通刊
摘 要：本文采用直流磁控溅射方法,改变溅射功率和溅射气压,在不锈钢基底上制备了金属Mo薄膜。分别采用XRD、SEM和傅立叶红外光谱仪对不同工艺参数下薄膜结构和红外反射谱进行了测试。讨论了工艺参数、晶体结构参数与红外反射特性之间的关系,分析了影响红外反射特性的原因。结果表明,在不同工艺条件下制备的金属Mo膜均呈现很强的(110)结晶取向,溅射功率和溅射气压均会通过影响溅射过程、薄膜结构、致密度和表面形态而影响Mo薄膜的红外反射率。
关 键 词：磁控溅射 MO薄膜 微观结构 红外反射
分 类 号：TB43]
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