期刊文章详细信息
影响电子级多晶硅清洗质量的相关因素
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]江苏鑫华半导体材料科技有限公司,江苏徐州221004
年 份：2018
期 号：15
起止页码：181-183
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：电子级多晶硅表金属杂质含量作为行业中的一项重要质量指标,其稳定性关系到企业的生存与发展。目前,降低电子级多晶硅表面金属杂质含量的主要环节在后处理工序,其中的清洗环节,可以将表金属杂质控制在较低水平,但在清洗工艺中,存在诸多影响最终产品质量的控制因素,本文根据现有电子级多晶硅清洗技术的经验,结合国内电子级多晶硅清洗的发展现状,从清洗设备及清洗工艺的角度探讨相关的影响因素。
关 键 词：电子级多晶硅 清洗 质量
分 类 号：TQ127.2]
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