文献类型：期刊文章

作　　者：吕反修[1] 黑立富[1] 李成明[1] 唐伟忠[1] 李国华[2] 郭辉[2] 孙振路[2]

LU Fan-xiu;HEI Li-fu;LI Cheng-ming;TANG Wei-zhong;LI Guo-hua;GUO Hui;SUN Zhen-lu(University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083 ,China;Hebei Plasma Diamond Technology Ltd. , Shijiazhuang 510081 ,China)

机构地区：[1]北京科技大学,北京100083 [2]河北普莱斯曼金刚石科技有限公司,石家庄510081

出　　处：《超硬材料工程》

年　　份：2018

卷　　号：30

期　　号：2

起止页码：31-40

语　　种：中文

收录情况：CAS、CSA、CSA-PROQEUST、普通刊

摘　　要：化学气相沉积(CVD)大尺寸高质量金刚石单晶是近年来在CVD金刚石膜研究领域所取得的重大研究进展之一。迄今为止的研究,绝大多数都是采用微波等离子体CVD,在高腔压下(10~30kPa)进行的。这是因为,在高腔压下,微波等离子体球急剧收缩,从而能够提供高质量金刚石外延生长所需要的高原子氢浓度。借助电弧放电的极高温和旋转电弧设计,直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)能够在更大衬底面积范围提供可与之相比拟的原子氢浓度,因此有可能成为一种低成本的CVD金刚石外延生长方法。文章介绍了近年来采用高功率直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)生长大尺寸、高质量金刚石单晶的初步研究结果,并介绍了已经取得的进展和存在的问题,以及对未来的展望。

关 键 词：金刚石单晶 外延生长  CVD DC ARC PLASMA JET

分 类 号：TQ164]