文献类型：期刊文章

作　　者：岳昕[1] 刘玉岭[1] 王辰伟[1] 郑环[1] 李祥州[1]

Yue Xin;Liu Yuling;Wang Chenwei;Zheng Huan;Li Xiangzhou(Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, School of Electronic and Information Engineering, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China)

机构地区：[1]河北工业大学电子信息工程学院天津市电子材料与器件重点实验室

出　　处：《稀有金属》

基　　金：国家科技中长期发展规划02重大专项项目(2016ZX02301003-004-007);河北省青年自然科学基金项目(F2015202267);河北工业大学优秀青年科技创新基金项目(2015007)资助

年　　份：2018

卷　　号：42

期　　号：4

起止页码：386-392

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2017、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2017_2018、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：布线槽处铜线条的电阻Rs关系着集成电路的响应速度和芯片的电特性。阻挡层抛光的过程中会造成布线槽处铜线条电阻Rs的变化,为了实现Rs的变化可控,使用FA/O螯合剂和JFC活性剂进行实验测试和机制研究。测试结果表明布线槽铜线条电阻Rs的变化取决于铜线条厚度的大小,铜线条厚度的大小是由铜线条去除速率VCu决定的。对含有不同浓度FA/O螯合剂和JFC活性剂的抛光液进行电化学实验研究,结果表明螯合剂FA/O对Cu^2＋有很强的螯合作用,可以促进抛光液对布线槽铜线条的化学作用,提高布线槽铜线条的去除速率VCu;活性剂JFC对布线槽铜线条表面有很强的钝化作用,可以抑制抛光液对布线槽铜线条的化学作用,减小布线槽铜线条的去除速率VCu。利用螯合剂FA/O的强螯合作用和活性剂JFC的强钝化作用实现了布线槽铜电阻Rs的控制。

关 键 词：布线槽  铜线条  电阻  阻挡层 钝化层

分 类 号：TN405]