文献类型：期刊文章

作　　者：徐嶺茂[1] 周晖[1] 张凯锋[1] 郑军[1] 李坤[1] 王济洲[1,2] 王多书[1]

机构地区：[1]兰州空间技术物理研究所真空技术与物理国防科技重点实验室,甘肃兰州730001 [2]无锡泓瑞航天科技有限公司,江苏无锡214000

出　　处：《红外与毫米波学报》

基　　金：Supported by National Defense Basic Research Project(A0320133002);Science and Technology on Vacuum Technology and Physics Laboratory for the Research Project(6142207040104)

年　　份：2018

卷　　号：37

期　　号：1

起止页码：11-14

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2017、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2017_2018、DOAJ、EI、IC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用电子束蒸发方法在双面抛光的ZnSe基底上镀制单层Ge薄膜.在80 K^300 K温度范围内,采用PerkinElmer Frontier傅里叶变换红外光谱仪低温测试系统每20 K测量Ge单层在2~15μm波长范围的透射率.采用全光谱反演拟合方法得到Ge单层在不同温度下的折射率.结果显示,Ge单层折射率均随波长增大而减小,且变化趋势基本相同.利用Cauchy色散公式对折射率波长色散关系进行拟合,得到Ge薄膜材料折射率温度/波长色散表达式为:n(λ,T)=3.29669+0.00015T+5.96834×10^(-6)T^2+0.416 98/λ~2+0.173 84/λ~4.最后,验证了Ge单层膜折射率温度/波长色散公式的准确性.

关 键 词：Ge膜  红外光学薄膜  折射率温度系数  

分 类 号：O484.4]