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期刊文章详细信息

集成电路用钛靶材和铜铬合金背板扩散焊接技术研究    

Study on diffusion bonding technology of Ti target and CuCr alloy backplane for integrated circuit(IC)

  

文献类型:期刊文章

作  者:董亭义[1,2,3] 户赫龙[1] 于文军[1] 何金江[3] 吕保国[1,2]

DONG Ting-yi;HU He-long;YU Wen-jun;HE Jin-jiang;Lü Bao-guo(Bejing Trillion Metals Co. Ltd., Beijing 100088, China;GRIKIN Advanced Materials Co. Ltd., Beijing 102200, China;The High Purity Metal Sputtering Target Engineering Technology Research Center in Beijing, Beijing 102200, China)

机构地区:[1]北京翠铂林有色金属技术开发中心有限公司,北京100088 [2]有研亿金新材料有限公司,北京102200 [3]北京市高纯金属溅射靶材工程技术研究中心,北京102200

出  处:《金属功能材料》

基  金:国家02科技重大专项课题(2014ZX02501-009-007)

年  份:2017

卷  号:24

期  号:6

起止页码:23-27

语  种:中文

收录情况:CAS、ZGKJHX、普通刊

摘  要:研究了高纯金属Ti和CuCr合金在不同的工艺条件下的扩散焊接性能和界面情况。结果表明,真空封焊的退火态CuCr合金和高纯Ti样件经过525℃/120 MPa/4h的热等静压,平均焊接强度能达到133.6 MPa以上,焊接界面达到冶金结合,焊接可以满足Ti靶材的使用要求。

关 键 词:靶材 高纯钛 扩散焊接  CUCR合金

分 类 号:TG453.9]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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