文献类型：期刊文章

作　　者：张月[1] 张桂如[2] 马丽华[3] 张帅拓[4] 张盼盼[5] 赵志方[1] 党森[6] 丁龙先[1]

ZHANG Yue;ZHANG Gui-ru;MA Li-hua;ZHANG Shuai-tuo;ZHANG Pan-pan;ZHAO Zhi-fang;DANG Sen;DING Long-xian(College of Mechanical Engineering, Shenyang University, Shenyang 110044, China;Shenyang Yate Heavy Equipment Manufacruring Co., Ltd., Shenyang 110135, China;Kohui Nano Technology Co., LTD., Shenzhen 518100, China;Lanzhou Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences, Lanzhou 730000, China;Henan Xinlei Co., LTD., Anyang 455141, China;Academic College, Northeastern University, Shenyang 110015,China)

机构地区：[1]沈阳大学机械工程学院,辽宁沈阳110044 [2]沈阳亚特重型装备制造有限公司,辽宁沈阳110135 [3]科汇纳米技术有限公司,广东深圳518100 [4]中国科学院兰州化学物理研究所,甘肃兰州730000 [5]河南鑫磊集团,河南安阳455000 [6]东北大学基础学院,辽宁沈阳110015

出　　处：《真空》

年　　份：2017

卷　　号：54

期　　号：6

起止页码：29-32

语　　种：中文

收录情况：CAS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：本研究采用直流磁控溅射的方法在W 18Cr4V高速钢基体上制备不同Al/Ti比例的(Ti,Al)N薄膜,为此,在圆柱形磁控溅射Ti靶表面上,采用多弧离子镀技术覆盖不同面积和一定厚度的纯Al,结果表明:只有在靶材的外表面Ti与Al的交界附近的样品才能沉积成薄膜,随着靶材表面覆盖纯A l的面积增大,所形成的结晶薄膜中的Al/Ti比例增大,膜层中的相组成AlN的数量增多,而TiAlN的数量减少,此外纯Al的覆盖面积过大,将导致溅射时所需要的气压过高而无法沉积成膜。

关 键 词：磁控溅射 (Ti  Al)N薄膜  划痕性能  膜基结合力  

分 类 号：TB43]