文献类型：期刊文章

作　　者：熊坚[1] 袁斌[1] 洪家君[1] 谢林[1] 熊玲华[1] 周雪云[1] 侯翠岭[1]

机构地区：[1]九江学院理学院江西省固体微结构重点实验室,江西九江332005

出　　处：《磁性材料及器件》

基　　金：江西省自然科学基金资助项目(20161BAB206104);江西教育科技厅项目(GJJ151070)

年　　份：2017

卷　　号：48

期　　号：6

起止页码：9-13

语　　种：中文

收录情况：CAS、普通刊

摘　　要：为了研究磁场溅射和磁场退火对材料磁性能的影响,用磁控溅射制备了几组CeFe薄膜,分别为衬底不加磁场的样品(No)和溅射时衬底加磁场的样品(FS),No和FS样品在外部磁场作用下分别在260℃、360℃热退火处理得到的样品。通过比较磁滞回线和高频磁谱,发现No样品磁退火之后各项性能几乎没变化。而磁场溅射的样品矫顽力更大,面内单轴各向异性场也更大,共振频率变化不大。磁场溅射之后再磁场退火显著地降低了CeFe薄膜的矫顽力,增大饱和磁化强度,增高共振频率。因此最有效的方法是同时利用磁场溅射和磁场退火来提高CeFe薄膜的软磁特性和高频截止频率。

关 键 词：CeFe薄膜  软磁性能 面内单轴各向异性  磁场溅射  磁场退火

分 类 号：TM271.2[材料类] O484.43]