文献类型：期刊文章

作　　者：董亭义[1,2,3] 万小勇[2,3] 章程[1] 何金江[3] 吕保国[1,2]

DONG Ting-yi WAN Xiao-yong ZHANG Cheng HE Jin-jiang LU Bao-guo(Trillion Metals Co. ,Ltd. , Beiiing 100088, China GRIKIN Advanced Materials Co. ,Ltd. , Beijing 102200, China The High Purity Metal Sputtering Target Engineering Technology Research Center in Beijing,Beijing 102200, China)

机构地区：[1]北京翠铂林有色金属技术开发中心有限公司,北京100088 [2]有研亿金新材料有限公司,北京102200 [3]北京市高纯金属溅射靶材工程技术研究中心,北京102200

出　　处：《金属功能材料》

年　　份：2017

卷　　号：24

期　　号：5

起止页码：57-62

语　　种：中文

收录情况：CAS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：详细介绍了磁控溅射Ti靶材的种类、应用及制备情况,指出了目前Ti靶材亟待解决的几个重大问题,并对靶材的发展趋势进行了探讨和展望。

关 键 词：磁控溅射 钛靶  现状  发展趋势  

分 类 号：TB383.2[材料类] TG146.23]