期刊文章详细信息
半导体制造领域显影工艺及显影喷嘴的发展
Development of Developing Process and Developing Nozzle in Semiconductor Manufacturing Field
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]清华大学深圳研究生院先进制造学部,广东深圳518055
基 金：国家科技重大专项02专项资助项目(2012ZX02102)
年 份：2017
期 号：5
起止页码：219-221
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：论述了显影工艺的发展及国内外对显影工艺的研究,指出了其存在的缺陷及技术发展难点,并对显影工艺中的重要部件显影喷嘴的发展过程进行了论述,介绍了各种显影喷嘴的工艺过程及结构功能,基于工艺要求分析了它们各自的优缺点以及可能产生的显影缺陷。从实际生产出发,针对显影工艺技术发展的客观趋势,指出了显影喷嘴的改进目标及未来发展方向。
关 键 词：显影工艺 显影喷嘴 均匀性 低冲击
分 类 号：TN305.7]
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