文献类型：期刊文章

作　　者：顾锦华[1] 陆轴[2] 康淮[2]

机构地区：[1]中南民族大学实验教学与实验室管理中心,武汉430074 [2]中南民族大学电子信息工程学院,武汉430074

出　　处：《中南民族大学学报（自然科学版）》

基　　金：湖北省自然科学基金资助项目(2011CDB418);中南民族大学中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(CZP17002)

年　　份：2017

卷　　号：36

期　　号：2

起止页码：66-72

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、IC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用掺氧化钼(MoO_3)的氧化锌(ZnO)陶瓷靶作为溅射源材料,利用磁控溅射工艺制备了钼掺杂氧化锌(MZO)透明导电氧化物(TCO)薄膜,通过X-射线衍射仪(XRD)、光分光光度计和四探针仪进行了测试表征,研究了溅射功率对MZO薄膜结构、光学和电学性能的影响.结果表明:所沉积的MZO薄膜样品均为六角纤锌矿结构,并具有(002)择优取向生长特性,溅射功率对薄膜结构和光电性能具有不同程度的影响.当溅射功率为120 W时,MZO薄膜的可见光区平均透过率最高、电阻率最低、性能指数最大,具有最好的光电综合性能.

关 键 词：掺杂氧化锌  薄膜  结构  光电性能

分 类 号：TM914]