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GaN基半导体异质结构的外延生长、物性研究和器件应用
Study of the epitaxial growth, physical properties and electronic devices of GaN-based semiconductor heterostructures
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]北京大学宽禁带半导体研究中心 [2]北京大学人工微结构和介观物理国家重点实验室 [3]北京大学信息与科学技术学院微纳电子学系
基 金:国家科技重点专项(2016YFB0400100;2016YFB0400200);国家重点基础研究发展计划项目(2013CB921901;2013CB632804);国家自然科学基金(11634002;61521004;61361166007;61376095;61522401;61574006;61204099);北京市科技计划项目(Z151100003315002)对本文涉及工作的大力支持
年 份:2017
卷 号:37
期 号:3
起止页码:81-97
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2014、CSCD、CSCD2017_2018、JST、MR、RCCSE、核心刊
摘 要:GaN基宽禁带半导体异质结构具有非常强的极化效应、高饱和电子漂移速度、高击穿场强、高于室温的居里转变温度、和较强的自旋轨道耦合效应等优越的物理性质,是发展高功率微波射频器件不可替代的材料体系,也是发展高效节能功率电子器件的主要材料体系之一,在半导体自旋电子学器件上亦有潜在的应用价值。GaN基异质结构材料、物理与器件研究已成为当前国际上半导体科学技术的前沿领域和研究热点。本文从GaN基异质结构的外延生长、物理性质及其电子器件应用三个方面对国内外该领域近年来的研究进展进行了系统的介绍和评述,并简要介绍了北京大学在该领域的研究进展。
关 键 词:GaN基宽禁带半导体 外延生长 二维电子气 输运性质 自旋性质 GaN基电子器件
分 类 号:TN304]
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引证文献:
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