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期刊文章详细信息

微/纳米CVD金刚石涂层沉积工艺参数优化    

Process Parameters Optimization of Micro/Nano-crystalline CVD Diamond Coatings

  

文献类型:期刊文章

作  者:许晨阳[1] 解亚娟[1] 邓福铭[1] 陈立[1,2] 雷青[1]

机构地区:[1]中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所,北京100083 [2]信利光电股份有限公司,汕尾516600

出  处:《人工晶体学报》

基  金:国家自然科学基金(51172278);北京市自然科学基金(15L00025);北京教委科技成果转化项目(2010-583)

年  份:2017

卷  号:46

期  号:5

起止页码:890-896

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2014、CSCD、CSCD2017_2018、核心刊

摘  要:通过正交实验设计工艺参数,利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)制备金刚石涂层,采用扫描电镜、洛氏硬度计、X射线衍射仪等对金刚石涂层进行性能表征,同时进行切削试验,从而确定微米层和纳米层最佳的碳源浓度、沉积气压、热丝与基体间距。结果表明:最优微米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度2%,沉积气压3 k Pa,热丝/基体间距5 mm。最优纳米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度5%,沉积气压5 k Pa,热丝/基体间距8 mm。

关 键 词:碳源浓度 沉积气压  热丝与基体间距  

分 类 号:O781]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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