文献类型：期刊文章

作　　者：林圳旭[1] 宋捷[1] 黄锐[1] 王岩[1] 王怀佩[1] 郭艳青[1] 宋超[1]

机构地区：[1]韩山师范学院材料科学与工程学院,潮州521041

出　　处：《南京大学学报（自然科学版）》

基　　金：国家自然科学基金(61274140;61306003);广东省自然科学基金(2015A030313871);广东高校优秀青年创新人才培养计划(YQ2015112)

年　　份：2017

卷　　号：53

期　　号：3

起止页码：428-433

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD2017_2018、JST、MR、RCCSE、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：采用甚高频等离子增强化学气相沉积技术,以SiH_4,CH_4和O_2作为反应气源,在150℃下制备非晶碳氧化硅薄膜,并对薄膜进行不同条件下快速热退火处理,研究快速热退火处理对其结构和发光特性的影响.实验表明,原始沉积薄膜在可见光全波段展现较强的光致发光特性,经过快速热退火处理后,其发光强度显著增强.薄膜在700℃经过快速热退火10s后,相比于原始沉积薄膜,其发光强度增强6倍,肉眼可见强的蓝绿光光发射.光荧光谱(PL)分析表明,薄膜的发光峰位不随激发波长的改变而发生明显变化.通过结合拉曼(Raman)光谱及傅里叶红外吸收(FTIR)光谱对薄膜的微结构及键合结构分析,分析了不同退火温度和退火时间对其蓝绿光发射增强机制的影响.

关 键 词：碳氧化硅薄膜  等离子增强化学气相沉积 光致发光 快速热退火

分 类 号：TP181]