文献类型：期刊文章

作　　者：刘民哲[1,2] 王泰升[1] 李和福[1] 刘震宇[1] 陈佐龙[3] 鱼卫星[4]

LIU Min-zhe WANG Tai-sheng LI He-fu LIU Zhen-yu CHEN Zuo-long YU Wei-xing(Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics ＆ Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130033, China University of the Chinese Academy of Science, Beijing, 100049, China People＇s Liberation Army of China, 63861 Troops, Baicheng, 137001, China Xi＇an Institute of Optics and Precision Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Xi＇an 710119)

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 [2]中国科学院大学 [3]中国人民解放军63861部队 [4]中国科学院西安光学精密机械研究所

出　　处：《光学精密工程》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.61475156;No.61361166004;No.51275504);吉林省基金资助项目(No.20140519002JH;No.20140519007JH);深圳市科创委基金资助项目(No.KQCX2015032416183981)

年　　份：2017

卷　　号：25

期　　号：3

起止页码：663-671

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2017_2018、EI(收录号：20172203711460)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：介绍了一种静电场辅助的新型微压印光刻技术,并对其工艺过程进行了深入的理论研究。首先,采用数值仿真软件COMSOL^(TM) Multiphysics,建立了静电场辅助的压印光刻瞬态仿真分析模型,讨论了不同时域微结构的演化过程。然后,详细分析了微结构的成型与仿真实验参数的定性关系,发现:适当地减小极板间距、模板凸起结构周期,同时增加模板的凸起高度、初始聚合物薄膜厚度和电压有助于微纳结构的成型。最后,通过仿真实验参数优化,得到了带有31μm中空结构的球冠微结构。与传统压印方法相比,静电场辅助的微压印技术工艺过程简单且成本较低,能够广泛应用于微电子机械系统、光子学、遗传学和组织系统等。

关 键 词：静电场 压印 微纳结构  两相流

分 类 号：O359.1] O442[力学类]