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期刊文章详细信息

政府创新补贴、公司高管背景与研发投入——来自我国高科技行业的经验证据    

Government Subsidies for Innovation,Company Executives Background and R&D Investment-Evidence from the High-tech Industry

  

文献类型:期刊文章

作  者:彭红星[1] 毛新述[1]

PENG Hongxing MAO Xinshu(Beijing Technology and Business University, 100048)

机构地区:[1]北京工商大学商学院国有资产管理协同创新中心

出  处:《财贸经济》

基  金:国家自然科学基金面上项目"高管团队的权力分布及其经济后果研究"(71672003);北京市社会科学基金青年项目"政府研发补贴对北京市科技企业创新绩效的影响及其优化路径研究"(16GLC044);国有资产管理协同创新中心项目"国有企业集团治理与管理控制研究"(GZ20131002)

年  份:2017

卷  号:38

期  号:3

起止页码:147-160

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2014、CSSCI、CSSCI2017_2018、NSSD、RCCSE、RWSKHX、SKJJZZ、ZGKJHX、核心刊

摘  要:增加高科技公司研发投入是实施好创新驱动发展战略的关键。本文以我国高科技上市公司为样本,基于市场失灵理论、寻租理论和公司资源理论,探讨政府创新补贴的配置状况,并检验其对高科技公司研发投入的影响,以探讨我国科技政策改革的优化路径。研究发现,当公司高管具有研发技术背景或政治关联背景时,高科技公司均可以获得更多创新补贴资源;高管研发技术背景可以有效增加高科技公司研发投入,但政治关联背景无法提升研发投入。进一步分析显示,当公司所处地区的知识产权保护程度越高时,高管研发技术背景对高科技公司研发投入的促进效果更加显著,具有研发技术背景的高管更加注重公司研发投入,而政治关联背景显著地提高了员工冗余程度。可见,通过政治关联获得创新补贴时,公司付出了社会性代价(如超额雇员);高管研发技术背景是高科技公司重要的人力(知识)资本,政府需要引导高科技公司积累人力资本,增加创新投入。

关 键 词:创新补贴 高管背景  研发投入  

分 类 号:F272.91[工商管理类] F276.44] F812.45

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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