登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

退火对大厚度TiAlN涂层力学性能影响的研究  ( EI收录)  

Synthesis and Characterization of TiAlN Thick Films with Top-Down Decreasing Gradient of Nitrogen

  

文献类型:期刊文章

作  者:赵升升[1] 周晟昊[2,3] 曾德长[2,3]

机构地区:[1]深圳职业技术学院深圳现代设计与制造技术重点实验室,深圳518055 [2]华南理工大学材料科学与工程学院,广州510640 [3]广东正德材料表面科技有限公司华南理工大学中山材料表面工程与薄膜技术创新研发中心,中山528437

出  处:《真空科学与技术学报》

基  金:国家自然科学基金项目(No.51401128);深圳市科技计划项目(No.JCYJ20140508155916426)

年  份:2017

卷  号:37

期  号:2

起止页码:182-187

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD_E2017_2018、EI、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:对不同温度真空退火的大厚度TiAlN涂层(厚度为65.3μm)的硬度、结合强度、残余应力、摩擦磨损等力学性能进行了系统的研究,以揭示真空退火工艺对大厚度涂层力学性能的影响规律。结果表明,随着退火温度增加,涂层应力得到释放,600℃退火后全膜厚平均应力降至-0.154 GPa,应力沿层深分布更加均匀,涂层硬度逐渐下降,但仍保持较高硬度值,膜基结合强度增强,磨损率略有上升。

关 键 词:真空退火 大厚度涂层  TIALN 力学性能  残余应力

分 类 号:TG174.4]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心