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期刊文章详细信息

多弧离子镀TiAlN薄膜的制备及其抗氧化性能    

Preparation of TiAlN Films by Multi-Arc Ion Plating Techniques and Its Oxidation Resistance

  

文献类型:期刊文章

作  者:梁启超[1] 王天国[1]

机构地区:[1]湖北汽车工业学院材料科学与工程学院,湖北十堰442002

出  处:《材料保护》

基  金:湖北省自然科学基金资助项目(2014CFB627);湖北省教育厅科学技术重点项目(D20141801)资助

年  份:2017

卷  号:50

期  号:1

起止页码:1-4

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2017_2018、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:目前,关于氮氩比对TiAlN薄膜高温抗氧化性能影响的研究较少。采用多弧离子镀技术在M2高速钢上沉积TiAlN薄膜,利用SEM、XRD等方法研究氮氩流量比对薄膜组织结构、表面形貌和抗氧化性的影响。结果表明:TiAlN薄膜呈δ-TiN面心立方晶体结构;随着氮氩流量比的提高,薄膜表面熔滴数量显著下降,膜层表面更加平整光滑,相结构的择优取向发生改变,硬度先增大后趋于稳定,表面氧化物含量逐渐下降;当氮氩流量比为9∶1时,所得TiAlN薄膜在800℃氧化温度下,其表面会生成一层致密的Al_2O_3保护膜,有效阻止了薄膜被进一步氧化,具有良好的抗氧化性能。

关 键 词:多弧离子镀 TIALN薄膜 氮氩流量比  M2高速钢 组织结构  抗氧化性能

分 类 号:TG174.4]

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同被引文献:

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