文献类型：期刊文章

作　　者：郑立功[1,2] 李龙响[1,2] 王孝坤[1,2] 薛栋林[1,2] 张学军[1,2]

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033 [2]中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室,吉林长春130033

出　　处：《光学精密工程》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.61036015)

年　　份：2017

卷　　号：25

期　　号：1

起止页码：8-14

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2017_2018、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为了实现磁流变抛光的确定性加工,对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定。分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布。利用标准圆柱,建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系,实现了光学元件在机床坐标系中的精确对准。通过在光学元件的特征点上进行去除函数实验测试,实现了抛光轮最低点对应的去除函数原点位置标定,对标定误差进行了分析。选择圆形平面光学元件,应用以金刚石颗粒为抛光粉的水基磁流液,对抛光轮直径为360mm的磁流变抛光系统进行去除函数原点标定,单次标定精度达到0.030mm。实验结果表明:本文提出的去除函数原点标定方法简单可靠,能够满足磁流变抛光技术的修形需求,可为磁流变抛光在光学制造中的应用提供有力支持。

关 键 词：光学制造 磁流变抛光 去除函数 原点标定  

分 类 号：TH161]