文献类型：期刊文章

作　　者：李振东[1] 詹华[1] 王亦奇[1,2] 汪瑞军[1,2] 王伟平[1,2]

机构地区：[1]中国农业机械化科学研究院,北京100083 [2]北京金轮坤天特种机械有限公司,北京100083

出　　处：《表面技术》

年　　份：2017

卷　　号：46

期　　号：1

起止页码：64-68

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2017_2018、EI、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：目的通过等离子刻蚀处理使基体表面更洁净,从而提高薄膜与基体的结合力。方法采用阳极层离子源,通过不同的离子源功率和处理时间对M50轴承钢样品进行处理,并在处理过的样品表面制备钨掺杂类金刚石薄膜。利用原子力显微镜对等离子刻蚀处理前后的样品表面形貌进行研究,利用Raman光谱分析薄膜的微观结构,利用划痕仪对薄膜与基体的结合力进行研究。结果不同的离子源功率和刻蚀时间,得到了不同的基体微观表面粗糙度;钨掺杂类金钢石薄膜的D峰和G峰分别在1350 cm^(-1)附近和1580 cm^(-1)附近,为典型的类金刚石结构,ID/IG值在1.5左右;未经等离子刻蚀前处理样品的膜/基结合力是23 N;而优化等离子刻蚀前处理参数样品的膜/基结合力高达69 N,最佳的离子源功率和刻蚀时间为2 k W、60 min。结论等离子刻蚀前处理能够有效提高薄膜与基体的结合力。

关 键 词：等离子刻蚀 阳极层离子源  M50轴承钢  钨掺杂类金刚石薄膜  离子源功率  

分 类 号：TG174.444]