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期刊文章详细信息

大型环抛机蜡盘平面度的测量  ( EI收录)  

Flatness measurement of pitch lap for large continuous polisher

  

文献类型:期刊文章

作  者:王哲[1,2] 徐学科[1,2] 邵建达[1,2] 顿爱欢[1,2] 杨明红[1,2] 范永涛[1] 方媛媛[1,2] 高文兰[1,2] 刘方[3]

机构地区:[1]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800 [2]上海恒益光学精密机械有限公司,上海201800 [3]华中科技大学光学与电子信息学院,湖北武汉430000

出  处:《光学精密工程》

基  金:国家自然科学基金青年科学基金资助项目(No.61605228)

年  份:2016

卷  号:24

期  号:12

起止页码:3048-3053

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号:20170703343854)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:针对大口径平面光学元件全频谱面形技术指标的高效率、高精度收敛,研究了环形抛光技术。考虑环抛机沥青蜡盘的平面度直接影响工件面形的收敛效率,本文利用准直激光束作为参考,设计研制了测量精度高,重复性精度达到±1μm的大型环抛机抛光蜡盘平面度测量专用装置。分析了环抛过程中蜡盘表面平面度和工件面型PV值之间的变化规律和相关性,根据测量数据得出了蜡盘平面度数据和工件面形的对应关系。实验显示:当平面度和面形曲线相差较大时,工件面形可快速收敛至1λ左右,并由粗抛向精抛工序快速过渡。提出的大型环抛机抛光蜡盘平面度监测装置实现了对湿滑胶体平面的高精度、快速测量,为环抛的确定性抛光工艺提供了重要的技术支持。

关 键 词:环形抛光  大型环抛机  抛光蜡盘  平面度测量

分 类 号:TH703[仪器类] TN305.2]

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同被引文献:

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