文献类型：期刊文章

作　　者：肖慧萍[1,2,3] 曹家庆[4] 周浪[3] 胡动力[1] 杜嘉斌[1] 章金兵[1]

机构地区：[1]江西赛维LDK太阳能高科技有限公司,江西新余338000 [2]南昌航空大学材料科学与工程学院,江西南昌330063 [3]南昌大学材料科学与工程学院,江西南昌330031 [4]南昌航空大学信息工程学院,江西南昌330063

出　　处：《江西化工》

基　　金：江西省自然科学基金(编号:20151BAB206022);江西省博士后研究项目(编号:2015KY31)

年　　份：2016

卷　　号：32

期　　号：6

起止页码：107-108

语　　种：中文

收录情况：普通刊

摘　　要：本文针对多晶硅太阳电池的电势诱导衰减(PID)现象,通过开发高折射率电池镀膜工艺,把改变双层减反射膜的折射率作为重点调试的工艺参数,调节镀膜时的Si H4:NH3比例,同时对膜厚进行适当的调整,最终使电池片的光电转换效率稳定在17.7%以上,组件经PID测试峰值功率衰减小于5%,达到抗PID要求。

关 键 词：抗PID  双层减反射膜  多晶硅电池片  

分 类 号：TM914.4]