期刊文章详细信息
扫描干涉场曝光光束自动对准及其收敛性分析 ( EI收录)
Beam Alignment and Convergence Analysis of Scanning Beam Interference Lithography Systems
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所国家光栅制造与应用工程技术研究中心,吉林长春130033 [2]中国科学院大学大珩学院,北京100049
基 金:国家重大科研装备研制项目(61227901)
年 份:2016
卷 号:43
期 号:12
起止页码:170-177
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号:20170403278998)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:光束自动对准技术是扫描干涉场曝光系统中的关键技术之一,两曝光光束位置与角度的重合程度直接影响所制作光栅掩模的槽型质量。针对光束对准过程中光束调整的两个运动维度之间存在相互耦合的情况,推导了存在耦合时对准算法的收敛条件,并分析了光路中反射镜与解耦平面之间存在的装调误差对对准性能的影响。分析得出,装调误差降低了光束对准系统性能,甚至导致对准算法发散,通过调节光路中反射镜M_2和解耦平面的距离L_2与反射镜M_1和解耦平面的距离L_1的比值L_2/L_1可以优化系统的收敛性能。实验结果表明,当L_2/L_1较大时对准系统调节性能较差,收敛速率较低;当L_2/L_1较小时光束对准系统可以快速地收敛到目标位置,有效地对光束进行对准调节。推导证明与模拟分析可为光束对准系统以及整个曝光光路的设计提供理论指导。
关 键 词:光栅 扫描干涉场曝光系统 光束对准 收敛性能 装调误差
分 类 号:O436.1]
参考文献:
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耦合文献:
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引证文献:
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二级引证文献:
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同被引文献:
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