登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

PCB电镀铜添加剂作用机理研究进展    

Research Progress of the Interactions among the Additives of Copper Electroplating in PCB Manufacturing

  

文献类型:期刊文章

作  者:彭佳[1,2] 程骄[2] 王翀[1,2] 肖定军[2] 何为[1,2]

机构地区:[1]电子科技大学应用化学系,四川成都610054 [2]广东光华科技股份有限公司,广东汕头515061

出  处:《电镀与精饰》

基  金:广东省引进创新科研团队计划(项目编号201301C0105324342);国家自然科学基金会资助(No.61474019)

年  份:2016

卷  号:38

期  号:12

起止页码:15-22

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:添加剂是PCB镀铜溶液中的重要组成部分,在电镀过程中发挥着不可替代的作用。添加剂能有效改善电镀过程中的电流分布,提高镀液的均镀能力,控制铜离子从溶液本体到反应界面的运输与电结晶过程,从而影响PCB板面微观凹处和微观凸处的电化学沉积速率。然而添加剂的作用并不是单一组分添加剂所发挥作用的简单叠加,它们之间存在着复杂的协同作用或对抗竞争作用。为了更好地指导电镀铜添加剂配方的研发,提高电镀工艺水平,结合目前国内外相关的文献报道对电镀工艺中添加剂间的相互作用进行分析和概述。其中包括氯离子、加速剂、抑制剂、整平剂之间的相互作用。

关 键 词:添加剂 电镀铜 作用机理  印制线路板

分 类 号:TQ153.14]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心