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期刊文章详细信息

氩气流量对多元掺杂ZnO薄膜性能的影响  ( EI收录)  

Influence of Ar-flux on the Properties of Multi-doped ZnO Thin Films

  

文献类型:期刊文章

作  者:段光申[1,2] 丁春华[1] 姜宏[1] 汪国庆[1] 彭国强[1,2] 冯建[1]

机构地区:[1]海南大学材料与化工学院海南省特种玻璃重点实验室,海口570228 [2]河北迎新玻璃集团有限公司,沙河054100

出  处:《材料导报(纳米与新材料专辑)》

基  金:科技部国家支撑计划(2013BAE03B02;2013BAJ15B04);海南省科技厅重大科研专项(ZDZX2013002);国家自然科学基金(51562008);海南省重点研发计划项目(ZDYF2016017)

年  份:2016

卷  号:30

期  号:2

起止页码:425-428

语  种:中文

收录情况:EI、IC、JST、SCOPUS、普通刊

摘  要:采用射频磁控溅射的方法在玻璃基底上用掺杂浓度为1%(质量分数)Al_2O_3,1%(质量分数)SiO2,1%(质量分数)石墨烯的陶瓷靶材制备出了多元掺杂氧化锌(ZnO∶Al∶Si∶GNP,GASZO)透明导电薄膜。利用XRD、SEM、四探针测试仪、紫外-可见分光光度计对薄膜的性能进行了表征和分析,研究了不同氩气流量(工作压强保持不变)对薄膜的结构、形貌及光电性能的影响。结果表明,所制备的薄膜均具有呈c轴择优取向的纤锌矿结构;当氩气流量为70sccm时,薄膜的电阻率最低为11.47×10^(-4)Ω·cm。所有薄膜样品在可见光波段的平均透过率超过91%。

关 键 词:氩气流量  射频磁控溅射 多元掺杂ZnO薄膜  光电性能

分 类 号:O484.4]

参考文献:

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同被引文献:

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