文献类型：期刊文章

作　　者：段光申[1] 丁春华[1] 姜宏[1] 汪国庆[1] 王红燕[1] 那聪[1]

机构地区：[1]海南大学材料与化工学院,海南省特种玻璃重点实验室,海口570228

出　　处：《材料导报（纳米与新材料专辑）》

基　　金：科技部国家支撑计划(2013BAE03B02);海南省科技厅重大科研专项(ZDZX2013002)

年　　份：2016

卷　　号：30

期　　号：1

起止页码：235-240

语　　种：中文

收录情况：CAS、EI、IC、JST、SCOPUS、UPD、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：磁控溅射技术以其显著的优点已成为工业镀膜主要技术之一。充分发挥磁控溅射镀膜技术的现有优势,寻找新的增长点,成为近年来人们研究的热点。介绍了磁控溅射镀膜技术的原理、特点;总结了近来磁控溅射法制备掺杂ZnO薄膜,主要是Al掺杂、Si掺杂、Al-H共掺杂ZnO薄膜的研究进展。并在此基础上对掺杂ZnO透明导电薄膜的发展趋势进行了展望。

关 键 词：磁控溅射 ZnO透明导电薄膜  掺杂

分 类 号：O484.4] O433[物理学类]