期刊文章详细信息
Ho^(3+)掺杂Bi_4Si_3O_(12)晶体的生长与光谱特性 ( EI收录)
Growth and Spectral Properties of Ho-doped Bi_4Si_3O_(12) Crystal
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所,上海201418
基 金:国家自然科学基金项目(51572175;51342007)
年 份:2016
卷 号:44
期 号:10
起止页码:1446-1450
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号:20164402959986)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用坩埚下降法生长了尺寸为f25 mm×100 mm的Ho^(3+)掺杂的Bi_4Si_3O_(12)(BSO:Ho)晶体,研究了所得晶体的透射光谱、激发光谱、发射光谱等特性。结果表明:BSO:Ho晶体透射光谱与纯BSO晶体基本一致,在350~800 nm波长范围的透过率约为80%,吸收边在286 nm处;在360、454和537 nm处存在与Ho^(3+)有关的吸收峰;激发光谱在240~310 nm波段出现1个宽的激发带,峰值在290 nm左右;发射光谱中除480 nm发射带外,在573 nm附近有多个与Ho^(3+)有关的尖锐发射峰。BSO:Ho晶体的主要发光分量的荧光衰减时间为94.41 ns,表明掺杂0.1%Ho^(3+)(摩尔分数)有利于提高BSO晶体的闪烁性能。
关 键 词:硅酸铋晶体 坩埚下降法 晶体生长 钬掺杂 光谱性能
分 类 号:O782]
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