文献类型：期刊文章

作　　者：丛晓庆[1] 邱祥彪[1] 孙建宁[1] 李婧雯[1] 张智勇[1] 王健[1]

机构地区：[1]北方夜视技术股份有限公司,江苏南京211106

出　　处：《红外与激光工程》

年　　份：2016

卷　　号：45

期　　号：9

起止页码：217-222

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2014、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2015_2016、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：随着微通道板的不断发展与完善,通过改善传统工艺提升其性能越来越困难,开发提升微通道板性能的新技术迫在眉睫。纳米薄膜材料的发展及其制备技术的成熟为微通道板的发展提供了契机,利用原子层沉积技术在通道内壁沉积一层氧化铝纳米薄膜,作为二次电子发射功能层,可以增强通道内壁的二次电子发射能力,从而提升微通道板的增益性能。通过优化原子层沉积工艺参数可以在微通道板的通道内壁沉积厚度均匀的氧化铝薄膜。研究结果表明,微通道板增益随沉积氧化铝厚度的变化而变化,在氧化铝厚度为60 cycles时,施加偏压800 V时增益可达56 000,约为正常微通道板增益的12倍。

关 键 词：微通道板 原子层沉积 氧化铝纳米薄膜  二次电子发射层  

分 类 号：TN223]