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期刊文章详细信息

常化处理对薄规格取向硅钢织构的影响  ( EI收录 SCI收录)  

EFFECT OF NORMALIZING ON TEXTURES OF THINGAUGE GRAIN-ORIENTED SILICON STEEL

  

文献类型:期刊文章

作  者:何承绪[1] 杨富尧[1,2] 严国春[1] 孟利[1,3] 马光[2] 陈新[2] 毛卫民[1]

机构地区:[1]北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083 [2]国网智能电网研究院电工新材料及微电子研究所,北京102211 [3]钢铁研究总院华东分院北京研发部,北京100081

出  处:《金属学报》

基  金:国家电网公司科技资助项目SGRI-WD-71-13-002~~

年  份:2016

卷  号:52

期  号:9

起止页码:1063-1069

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号:20164002861470)、IC、JST、RCCSE、SCI(收录号:WOS:000383635700005)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000383635700005)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:利用EBSD和XRD技术对比分析了常化和不常化2种工艺对薄规格取向硅钢组织及织构的影响.结果表明,2种工艺条件下的初次再结晶和二次再结晶织构存在着明显的差异.经过常化处理的样品初次再结晶组织中{411}<148>和{111}<112>织构组分比不常化样品的低,但Goss织构组分比不常化样品的高;常化处理的样品二次再结晶织构多为锋锐的Goss织构,磁性能优异,而不常化处理的样品二次再结晶织构多为Brass织构和偏Goss织构.此外,经过常化处理样品的初次再结晶组织中Goss取向晶粒周围分布的20°~45°大角度晶界所占比例高于不常化处理样品.2种样品初次再结晶后的平均晶粒尺寸差别并不明显,均为20μm,而且整体晶粒尺寸分布也相近.常化处理对最终磁性能有决定性影响,主要体现在提高冷轧前Goss取向"种子"的比例以及优化再结晶组织中Goss取向晶粒周围的织构环境.

关 键 词:薄规格取向硅钢  常化 织构 再结晶 低温热轧板  

分 类 号:TG142.77[材料类]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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