期刊文章详细信息
高纯钽溅射靶材制备工艺进展
Fabrication Technology Progress of High Purity Tantalum Sputtering Target
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心,宁夏石嘴山753000 [2]宁夏东方钽业股份有限公司,宁夏石嘴山753000
年 份：2016
卷 号：32
期 号：4
起止页码：54-56
语 种：中文
收录情况：CAS、普通刊
摘 要：目前高纯钽溅射靶材的制备方法,主要为熔炼铸锭法和粉末冶金法,文章对两种方法制备钽靶材性能的特点进行了详述,同时对粉末冶金法制备高纯钽靶材的试验结果进行分析。针对目前国内外生产状况,展望了未来高纯钽溅射靶材的发展方向。
关 键 词：钽溅射靶材 熔炼铸锭法 粉末冶金法 制备工艺 进展
分 类 号：TG146.4[材料类]
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