期刊文章详细信息
氮化物外延生长在线监测技术 ( EI收录)
In-Situ Monitoring Technology for Growth of Ⅲ Nitrides by Metal Organic Chemical Vapor Deposition
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]电子科技大学微电子与固体电子学院,成都611731 [2]北京智朗芯光科技有限公司,北京昌平区102206
基 金:四川省科技计划(2014GZ0151;2016JQ0022);中央高校基本科研业务费(ZYGX2013J115)
年 份:2016
卷 号:45
期 号:4
起止页码:650-658
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2015_2016、EI、IC、INSPEC、JST、MR、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊
摘 要:金属有机化学气相沉积外延技术(MOCVD)是利用金属有机化合物进行金属输运的一种气相外延生长技术,是大规模生产第三代半导体光电子、微电子器件的重要方法,也是制备半导体异质结、超晶格、量子阱等低维结构的主要手段。第三代半导体材料的飞速发展对MOCVD设备提出了更高的要求,MOCVD在线监测技术作为控制生长过程的前提,面临更多的挑战。该文综合介绍和比较了当今各种MOCVD在线监测技术的发展情况,并对MOCVD在线监测技术中的关键技术——红外测温、生产信息、曲率测量、光致发光做出简要介绍和看法。
关 键 词:曲率测量 生长信息 红外测温 MOCVD在线监测技术 光致发光
分 类 号:TN304.054]
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