文献类型：期刊文章

作　　者：李春伟[1,2] 苗红涛[3] 徐淑艳[1] 张群利[1]

机构地区：[1]东北林业大学工程技术学院,哈尔滨150040 [2]东北林业大学林业工程博士后流动站,哈尔滨150040 [3]河南牧业经济学院包装与印刷工程学院,郑州450046

出　　处：《表面技术》

基　　金：中央高校基本科研业务费专项资金项目资助(2572015CB07);黑龙江省科学基金项目资助(QC2016053);中国博士后科学基金项目资助(2016M590273);黑龙江省教育厅科学技术研究项目资助(12523008)~~

年　　份：2016

卷　　号：45

期　　号：6

起止页码：82-90

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2015_2016、EI、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)是一门新兴的高离化率磁控溅射技术。概述了HIPIMS的技术优势,包括高膜层致密度和平滑度、高膜基界面结合强度以及复杂形状工件表面膜层厚度均匀性好等。同时归纳了HIPIMS存在的问题,包括沉积速率及低溅射率金属靶材离化率低等。在此基础上,重点综述了近年来复合HIPIMS技术的研究进展,其中复合其他物理气相沉积技术的HIPIMS,包括复合直流磁控溅射增强HIPIMS、复合射频磁控溅射增强HIPIMS、复合中频磁控溅射增强HIPIMS、复合等离子体源离子注入与沉积增强HIPIMS等;增加辅助设备或装置的HIPIMS,包括增加感应耦合等离子体装置增强HIPIMS、增加电子回旋共振装置增强HIPIMS,以及增加外部磁场增强HIPIMS等。针对各种形式的复合HIPIMS技术,分别从复合HIPIMS技术的放电行为、离子输运特性,及制备膜层的结构与性能等方面进行了归纳。最后展望了复合HIPIMS技术的发展方向。

关 键 词：高功率脉冲磁控溅射  高离化率  物理气相沉积 辅助装置

分 类 号：TG174.442]