文献类型：期刊文章

作　　者：陈修国[1] 袁奎[1] 杜卫超[1] 陈军[1] 江浩[1] 张传维[1,2] 刘世元[1,2]

机构地区：[1]华中科技大学,数字制造装备与技术国家重大实验室,武汉430074 [2]武汉颐光科技有限公司,武汉430075

出　　处：《物理学报》

基　　金：国家自然科学基金(批准号:51475191,51405172);国家重大科学仪器设备开发专项(批准号:2011YQ160002);中国博士后科学基金(批准号:2014M560607,2015T80791);湖北省自然科学基金(批准号:2015CFB278);教育部长江学者与创新团队发展计划(批准号:IRT13017)资助的课题~~

年　　份：2016

卷　　号：65

期　　号：7

起止页码：69-79

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号：20162002388676)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000380358300009)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学散射测量技术只能获得光斑照射区内待测参数的平均值,而对小于光斑照射区内样品的微小变化难以准确分析.此外,由于其只能进行单点测试,必须要移动样品台进行扫描才能获得大面积区域内待测参数的分布信息,从而严重影响测试效率.为此,本文将传统光学散射测量技术与显微成像技术相结合,提出利用Mueller矩阵成像椭偏仪实现纳米结构几何参数的大面积快速准确测量.Mueller矩阵成像椭偏仪具有传统Mueller矩阵椭偏仪测量信息全、光谱灵敏度高的优势,同时又有显微成像技术高空间分辨率的优点,有望为批量化纳米制造中纳米结构几何参数提供一种大面积、快速、低成本、非破坏性的精确测量新途径.

关 键 词：纳米结构  纳米测量  光学散射测量  Mueller矩阵成像椭偏仪  

分 类 号：TB383.1[材料类] TH74]