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期刊文章详细信息

退火处理对MgO薄膜性能的影响  ( EI收录)  

Effects of Annealing Treatment on the Properties of MgO Thin Films

  

文献类型:期刊文章

作  者:张骏[1,2] 刘胜利[2,3] 王海云[2,3] 程杰[3]

机构地区:[1]南京邮电大学电子科学与工程学院,南京210003 [2]南京大学(苏州)高新技术研究院,苏州215123 [3]南京邮电大学理学院先进功能陶瓷研究中心,南京210003

出  处:《材料导报》

基  金:江苏省自然科学基金青年基金(BK20130376;BK20130855);国家自然科学基金(51172110;11405089);江苏省高校自然科学研究资助项目(13KJB140012);苏州市科技局纳米技术专项基金(ZXG201444);江苏省"六大人才高峰"高层次人才项目(2014-XCL-015);南邮校级科研项目(NY214131)

年  份:2016

卷  号:30

期  号:4

起止页码:61-64

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号:20161102098675)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、UPD、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用磁控溅射法在石英衬底上制备了MgO薄膜并分别在不同温度下进行退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了MgO薄膜的结构和表面形貌随退火温度的变化,发现退火可以改善薄膜的结晶质量,即随着退火温度的升高,晶粒尺寸逐渐增大,结晶性能更佳,表面更加平整。此外,通过紫外-可见光分光光度计研究了MgO薄膜光学特性的变化,发现随着薄膜退火温度的升高,可见光透射率下降,光学带隙值逐渐减小。

关 键 词:MgO薄膜  退火处理 光学特性 磁控溅射

分 类 号:TQ174]

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同被引文献:

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