期刊文章详细信息
HFCVD法制备金刚石薄膜影响因素的研究进展
Research Progress on Influencing Factors in the HFCVD Preparation of Diamond Films
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]重庆科技学院冶金与材料工程学院,重庆401331
基 金：重庆科技学院2014大学生科技创新训练计划项目资助
年 份：2016
卷 号：44
期 号：3
起止页码：20-22
语 种：中文
收录情况：CAS、普通刊
摘 要：金刚石薄膜由于其独特的性能成为研究热点。本文通过利用热丝气相沉积法(HFCVD)在基片上制备金刚石薄膜,研究对金刚石薄膜产生影响的各个因素,探讨各个影响因素的研究进展。基体表面预处理,可以提高基体的附着力,改善提高膜基结合力。通过改变甲烷和氢气浓度、沉积气压、温度等工艺参数,可影响是否能在基片上形成金刚石晶核,生成金刚石薄膜。通过对以上影响因素的研究进展,探讨制备过程各个最适宜的反应条件。
关 键 词：热丝化学气相沉积 金刚石薄膜 表面预处理 基片温度 沉积气压
分 类 号：TQ127.1]
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