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期刊文章详细信息

黑矩阵扩散法修复亮点理论模型及影响因素分析    

Model of BM diffusion method and effect actors analysis in bright dot repair

  

文献类型:期刊文章

作  者:魏平玉[1] 李涛[1] 徐敏[1] 韩磊[1] 郭栋[1] 张南红[1]

机构地区:[1]合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥230012

出  处:《液晶与显示》

年  份:2016

卷  号:31

期  号:2

起止页码:164-172

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2015_2016、EBSCO、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:本文建立了黑矩阵扩散法修复亮点的理论模型并实验验证了该模型,分析了影响修复效果的各个因素及影响程度,为提升亮点修复成功率奠定基础。我们设置一系列实验,定性分析了激光泵浦源、激光波长、光斑大小、加工速度、产品设计和修复模式因素对修复效果的影响。首先,通过FIB图像分析,验证了创建的修复理论模型;其次,分析了上述因素对修复成功率的影响,最后对一款修复难度大的产品进行改善提升。实验结果表明:修复过程按照产生空隙(Gap,约1.5μm),黑矩阵颗粒化和空隙填充三阶段进行;从成功率看,Laser Diode泵浦方式优于Flash Lamp,B波长激光优于A波长激光,光斑大小选取1/2子像素、速度选取100~200μm/s时Gap成功率最高,有Overcoat层(OC)且黑矩阵(BM)比重大的产品修复成功率更高。最后我们以上述理论分析和实验结果为指导,将一款修复难度极大的产品的成功率从40%提升到90%以上。

关 键 词:黑矩阵扩散  修复成功率  激光 影响因素  光阻

分 类 号:TN24] TN942

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同被引文献:

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