文献类型：期刊文章

作　　者：王小安[1] 汪建华[1,2] 吕琳[1] 翁俊[1]

机构地区：[1]武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430074 [2]中国科学院等离子体物理研究所,合肥230031

出　　处：《金刚石与磨料磨具工程》

基　　金：国家自然科学基金(项目号:11175137)

年　　份：2015

卷　　号：35

期　　号：5

起止页码：20-24

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、IC、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：为研究Ar浓度对金刚石膜的质量的影响,采用微波等离子体化学气相沉积法,以Ar/H2/CH4为气源,通过改变反应气源中的Ar流量,在P型Si(100)基片上分别沉积了不同晶粒尺寸的金刚石膜(微米、纳米以及超纳米)。采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪、往复式摩擦磨损试验机等设备对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸、薄膜质量、残余应力以及微观硬度等特性进行了分析。结果表明:随着Ar流量的增加,金刚石膜晶粒尺寸减小;由G峰漂移引起的拉应力先减小后增大;薄膜中非金刚石含量增加,硬度下降。

关 键 词：微波等离子体 化学气相沉积 超纳米金刚石  氩气

分 类 号：O539] O484.4[物理学类]