文献类型：期刊文章

作　　者：焦安源[1] 全洪军[2] 邹艳华[3]

机构地区：[1]辽宁科技大学应用技术学院,辽宁鞍山114051 [2]辽宁科技大学机械工程与自动化学院,辽宁鞍山114051 [3]宇都宫大学大学院工学部

出　　处：《机械设计与制造》

基　　金：鞍山市科技项目(201209)

年　　份：2015

期　　号：10

起止页码：84-87

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：在磁力研磨工艺中,磁粒刷的运动轨迹直接影响工件的表面精度和均匀性。在自行设计的试验装置上,通过施加公转运动方式优化磁粒刷运动轨迹并进行试验研究,对研磨前后工件的表面粗糙度、横截面形状及3D微观形貌等进行检测与对比。结果表明:优化研磨轨迹后,表面质量和平面均匀性均较传统工艺有不同程度的提高,且当磁粒刷公转半径大于自转半径时效果最好。另外,还建立了研磨粒子的轨迹表达式,通过Graph软件对轨迹仿真分析,与试验结果相一致,因此可以针对工件形状和表面质量要求,预先规划合理研磨轨迹。

关 键 词：磁力研磨 磁粒刷  均匀性 表面质量  

分 类 号：TH16] TH580.68