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石英坩埚内高纯隔离层在高效多晶硅铸锭中的应用
Application of High Purity Barrier Layer in the Silica Crucible for the Casting of High-performance Multi-crystalline Silicon Ingot
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]南京工业大学材料科学与工程学院,南京210009 [2]东海晶澳太阳能科技有限公司,连云港222300
年 份：2015
卷 号：34
期 号：9
起止页码：2525-2528
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD2015_2016、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊
摘 要：多晶硅铸锭过程中,石英坩埚侧壁中的杂质通过固相扩散进入并残留在多晶硅锭的边部,形成多晶硅锭边部的低少子寿命区(边部红区)。本文通过在坩埚侧壁上制作三种不同成分的高纯隔离层来阻挡坩埚侧壁中的杂质向硅锭中的扩散,以降低硅锭中的边部红区比例。结果表明采用掺钡高纯隔离层可以使硅锭中的边部红区显著变窄,基本消除硅方中的边部红区。
关 键 词：高效多晶硅 隔离层 红区
分 类 号：TB321[材料类]
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