文献类型：期刊文章

作　　者：翁俊[1] 刘繁[1] 孙祁[1] 王小安[1] 黄平[1] 周璐[1] 陈义[1] 汪建华[1]

机构地区：[1]武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430074

出　　处：《金刚石与磨料磨具工程》

基　　金：国家自然科学基金(No.11175137)

年　　份：2015

卷　　号：35

期　　号：3

起止页码：23-28

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、IC、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：本研究在实验室自制的10kW圆柱形多模谐振腔式MPCVD装置中,研究了高功率沉积环境下,氮气在不同基片温度下对沉积的金刚石膜的影响。利用SEM表征对金刚石膜表面形貌的变化进行了分析,并结合Raman以及XRD的表征结果,分析了不同沉积温度下,氮气体积浓度与金刚石膜质量和晶粒尺寸间的关系。结果表明：引入氮气会同时起到提高沉积速率和增加二次形核的作用,并且金刚石膜的质量会随氮气体积浓度的增加而下降。随着基片温度的降低,N2对金刚石膜的影响将更多的表现为增加二次形核率。在基片温度为750℃时,通过研究不同氮气体积浓度下金刚石膜晶粒尺寸和结晶度的变化,得出当氮气体积浓度保持在0.03%-0.07%之间时,能获得晶粒尺寸为50nm左右且结晶度较好的纳米金刚石膜。

关 键 词：氮气体积浓度  高功率 微波等离子体 化学气相沉积 金刚石膜

分 类 号：TQ164]