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期刊文章详细信息

气氛及压强对MOCVD红外测温的影响    

Influence of Atmosphere and Pressures on Infrared Temperature Measurement of MOCVD Reactor

  

文献类型:期刊文章

作  者:杨超普[1] 方文卿[2]

机构地区:[1]商洛学院化学工程与现代材料学院/陕西尾矿资源综合利用重点实验室,陕西商洛726000 [2]南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心,江西南昌330047

出  处:《商洛学院学报》

基  金:陕西省尾矿资源综合利用重点实验室开放基金项目(2014SKY-WK012)

年  份:2015

卷  号:29

期  号:4

起止页码:43-46

语  种:中文

收录情况:NSSD、普通刊

摘  要:利用自主搭建的可径向移动的940 nm单波长红外辐射测温仪,研究了Thomas Swan CCS MOCVD第二次Bake过程中,反应室在不同气氛(氢气、氮气以及氢氮混合气体)和不同压强(13.33-53.33 k Pa)下径向温度分布。试验结果表明:压强为13.33 k Pa,MOCVD反应室内的气氛不同时,红外测温结果主要受气体导热系数的影响;在20 L氢气下,反应室内压强越大温度越高;在压强为13.33 k Pa,H2流量的不同对测温影响不大。该研究结果可为MOCVD反应室的红外辐射测温与精确控温提供参考。

关 键 词:MOCVD 红外辐射测温  在线监测

分 类 号:TN216]

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同被引文献:

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