文献类型：期刊文章

作　　者：冯军[1,2] 金凡亚[1] 童洪辉[1] 但敏[1] 沈丽如[1] 陈美艳[1] 邓雉[1] 赖新春[3]

机构地区：[1]核工业西南物理研究院,成都610041 [2]南华大学,衡阳421001 [3]四川材料与工艺研究所,江油621700

出　　处：《真空科学与技术学报》

基　　金：ITER计划国内配套专项课题(2013GB110006);国家自然科学基金项目(11305054;11305055);四川省科技计划项目(2013GZX0168)

年　　份：2015

卷　　号：35

期　　号：6

起止页码：714-718

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD_E2015_2016、EI(收录号：20153401187866)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：对钛合金基体上的TiN薄膜进行了不同剂量N离子的注入。利用扫描电镜、X射线衍射对离子注入前后组织进行了分析,并进行了硬度、摩擦磨损实验。结果表明:N离子注入使膜层呈现非晶化趋势,并随剂量增大而增强,当剂量为1.2×10^(18)ions/cm^2时膜层非晶化,晶粒得到了细化;当剂量为9×10^(17)ions/cm^2时变化最明显,尺寸约为20 nm以下;表面硬度得到提高,其增幅受到剂量及晶粒细化影响,最大增幅约为163.8 HV;摩擦磨损性能在TiN膜层表面硬度提高、粗糙度降低及长程效应的影响下也得到了较大提高,主要受注入剂量影响。

关 键 词：离子注入 TIN 非晶化 细化晶粒 硬度  摩擦磨损  

分 类 号：TG174.444]