文献类型：期刊文章

作　　者：陈朋灿[1] 李伟[2] 卢建富[3] 刘平[2] 张柯[2] 马凤仓[2] 刘新宽[2] 陈小红[2] 何代华[2]

机构地区：[1]上海理工大学机械工程学院,上海200093 [2]上海理工大学材料科学与工程学院,上海200093 [3]浙江金盾链条制造有限公司,浙江诸暨311813

出　　处：《功能材料》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51471110;51101101);上海市研究生创新基金资助项目(JWCXSL1302)

年　　份：2015

卷　　号：46

期　　号：11

起止页码：11080-11084

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD_E2015_2016、EI(收录号：20153501219796)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用TiSi复合靶和Al靶,用射频磁控溅射工艺沉积不同TiSiN层厚度的AlN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了不同TiSiN层厚度对AlN/TiSiN纳米多层膜的微观组织和力学性能的影响。结果表明,随着TiSiN层厚度的增加,AlN相的结晶程度先增加后降低,涂层的硬度先提高后降低,当TiSiN层厚度为0.5nm时具有最高的硬度和弹性模量。HRTEM观测可知,在TiSiN层厚度为0.5nm时,TiSiN层在AlN层的模板作用下呈密排六方结构,并与AlN层呈共格外延生长,薄膜的强化主要与共格外延生长结构有关。

关 键 词：AlN/TiSiN纳米多层膜  微观结构 力学性能 共格外延生长  

分 类 号：TG174.4]