文献类型：期刊文章

作　　者：晏建武[1,2] 彭阿芳[1,2] 罗亮[3] 曹清华[1,2] 张丽玲[1,2]

机构地区：[1]江西省精密驱动与控制重点实验室,江西南昌330099 [2]南昌工程学院微纳驱动与控制研究所,江西南昌330099 [3]南昌航空大学航空制造工程学院,江西南昌330063

出　　处：《金属热处理》

基　　金：国家自然科学基金(51161019);江西省科技厅科技支撑计划(20133BBE50011);江西省科技厅对外合作(20141BDH80025);江西省教育厅落地计划(KJLD14096)

年　　份：2015

卷　　号：40

期　　号：4

起止页码：85-88

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2015_2016、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用磁控溅射技术制备了Fe84Ga16薄膜并进行了退火处理,用SEM和XRD研究了薄膜的显微结构和内应力,计算了溅射态和退火态薄膜的内应力。结果发现,溅射态和退火态薄膜都以A2相存在,并随着退火温度的升高,择优取向变得愈加不明显。与退火后的薄膜相比,溅射态薄膜内应力更大,且为压应力。低温退火后,薄膜内应力有一定程度的减小,随着退火温度的升高,薄膜内应力又逐渐回升,但回升的幅度不大。

关 键 词：Fe-Ga合金薄膜  磁控溅射 退火  显微结构 内应力

分 类 号：TG156]