文献类型：期刊文章

作　　者：鄢强[1,2] 梁政[1] 宋慧瑾[3] 吴涛[2] 吴军[2]

机构地区：[1]西南石油大学机电工程学院,四川成都610500 [2]四川金星压缩机制造有限公司,四川成都611731 [3]成都大学工业制造学院,四川成都610106

出　　处：《光谱学与光谱分析》

基　　金：国家(863)项目(2012AA09A203);四川省教育厅青年科研项目(14ZA0321)资助

年　　份：2015

卷　　号：35

期　　号：4

起止页码：1089-1093

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号：20152300905235)、IC、INSPEC、JST、PUBMED、RCCSE、RSC、SCI(收录号：WOS:000352926900045)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000352926900045)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用电弧离子镀技术(AIP)在YW2合金基体表面制备了TiAlN涂层,通过化学方法退除基体上的涂层,分析了硬质合金表面退除涂层后和镀覆涂层前成分和元素存在形态的变化。发现当样品在30%H2O2、草酸钾COOK(1.5mol·L-1)、缓蚀剂葡萄糖酸钠GA和NaOH,VNaOH溶液∶V30%H2O2∶VCOOK溶液=1∶1∶1,45℃时,45min可以退除涂层,肉眼未观察到基体表面受腐蚀。涂层退除后样品表面光亮,呈现合金未镀覆涂层前颜色。通过对退镀后YW2基体和基体镀覆涂层前的表面XPS定性及定量分析发现,退除涂层后,基体表面W元素结合能和N元素主峰结合能与XPS结合能与参照表上对应结合能变化很小,元素的价态没有发生变化;镀覆TiAlN涂层时扩散到合金浅表层的Al,Ti,N元素,造成表面Al,Ti,N元素含量较镀覆涂层前增加,结合能位置偏移,形成AlN和TiN,有利于重新镀覆的涂层与合金基体的结合。

关 键 词：退镀液 TIALN涂层 硬质合金 能谱研究  

分 类 号：TM914.42]