期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北武汉430073
基 金:国家自然科学基金(NO.11175137)
年 份:2015
卷 号:21
期 号:3
起止页码:131-138
语 种:中文
收录情况:ZGKJHX、普通刊
摘 要:单晶金刚石因其优异的物理化学性质,使其成为高新技术领域最有潜力的材料之一。本文首先对CVD(化学气相沉积)法制备单晶金刚石进行了简介,然后对MPCVD(微波等离子体化学气相沉积)制备单晶金刚石过程中衬底选择、预处理、沉积参数等进行了详细评述,最后对MPCVD单晶金刚石在超精密加工、光学领域、粒子探测器、高温半导体及电子器件等方面的应用进行了介绍,并对未来单晶金刚石的发展作出了展望。
关 键 词:单晶金刚石 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD) 高技术应用
分 类 号:O781] O484
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