文献类型：期刊文章

作　　者：自兴发[1,2] 叶青[1] 刘瑞明[1] 何永泰[1]

机构地区：[1]楚雄师范学院物理与电子科学学院,云南楚雄675000 [2]云南师范大学太阳能研究所,可再生能源材料先进技术及制备教育部重点实验室,云南昆明650092

出　　处：《光电子．激光》

基　　金：国家自然科学基金(61271159)资助项目

年　　份：2015

卷　　号：26

期　　号：5

起止页码：883-888

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号：20153001050583)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、核心刊

摘　　要：利用射频（RF）磁控溅射技术,采用单质Zn靶和MgO陶瓷靶共溅射,在O2和Ar气的混合气氛下制备了Mg掺杂ZnO（ZnO：Mg）薄膜,并通过改变O2和Ar的流量比O2/Ar,研究了对ZnO：Mg薄膜的物相结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明,室温下O2/Ar在1∶1~3∶1范围内制备的薄膜均为单相的ZnO（002）薄膜,薄膜具有三维（3D）的结核生长模式;沉积的ZnO：Mg薄膜在N2氛下200℃退火处理后,O2/Ar为3∶1制备的薄膜在380~1200nm光谱范围内具有较高的透过率,可见光区平均透过率约为85%、最大透过率达90%;薄膜的光学带隙Eg为3.51eV,Mg掺杂对ZnO薄膜的光学带隙具有较为明显的调制作用;采用极值包络线法计算表明,薄膜在589.3nm处的折射率为1.963,膜厚约285nm。

关 键 词：射频(RF)磁控溅射  ZnO:Mg薄膜  透射光谱 光学带隙

分 类 号：TB34[材料类]