文献类型：期刊文章

作　　者：高赟[1] 赵高扬[1] 任洋[2]

机构地区：[1]西安理工大学材料科学与工程学院,西安710048 [2]西安理工大学现代分析测试中心,西安710048

出　　处：《人工晶体学报》

基　　金：国家自然科学基金(51372198);陕西省科技计划资助项目(国际合作)(2013KW14-01)

年　　份：2015

卷　　号：44

期　　号：2

起止页码：425-429

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD2015_2016、EI(收录号：20151800797377)、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用喷雾热解法分别在普通钠钙玻璃、含Si O2过渡层与Ti O2过渡层的玻璃上制备了F掺杂Sn O2薄膜,比较了不同过渡层上生长的F掺杂Sn O2薄膜的表面形貌特点,分析了过渡层对F掺杂Sn O2膜层的光电性能的影响。结果表明,过渡层种类对F掺杂Sn O2薄膜各项性能影响很大,在Si O2薄膜过渡层上制备的F掺杂Sn O2薄膜晶粒最小且表面致密,在Ti O2过渡层制备的F掺杂Sn O2薄膜晶粒最大,在玻璃上生长的F掺杂Sn O2薄膜较为疏松,以Si O2为过渡层制备的F掺杂Sn O2薄膜光电性能最佳,其平均可见光透过率为82.9%,电阻率为5.33×10-4Ω·cm,适合喷雾热解法制备性能优良的玻璃基F掺杂Sn O2薄膜。

关 键 词：FTO薄膜  喷雾热解 过渡层 光电性能

分 类 号：O484]